主催: 日本液晶学会
会議名: 2008年 日本液晶学会討論会
開催地: キャンパスプラザ京都
開催日: 2008/09/17 - 2008/09/19
我々は、高分子安定化BPの一形態である誘起等方相を用いた材料の実用化検討を行っている。この材料は光学的等方性素子として表示モードへの応用が期待できる。一方で、電場オフ時の黒透過率および応答速度に課題を抱えていた。我々は、これらの課題を材料調製のプロセス面から解決した。液晶組成物の吸収波長を外した390nm以上の照射光でin-situ重合を行った結果、低い黒透過率、高速応答を示す液晶材料を得ることに成功した。 イオン密度測定の結果から、系内に均一に形成された高分子ネットワークが特性向上の要因であることが示唆された。