電気学会論文誌C(電子・情報・システム部門誌)
Online ISSN : 1348-8155
Print ISSN : 0385-4221
<電子物性・デバイス>
Rh(PVP) ナノ粒子表面に吸着した硫化ジメチルのXPSおよびNEXAFS解析
丹羽 悠登小川 智史Galif Kutluk八木 伸也
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130 巻 (2010) 10 号 p. 1751-1755

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抄録

We have studied the adsorption reaction of dimethyl sulfide (DMS: (CH3)2S) on the surface of Rh(PVP) nanoparticles by using AFM, XPS and NEXAFS techniques. The AFM images show the degree of dispersion of the Rh(PVP) nanoparticles depends on the amount of them. The in-situ XPS results indicate that the dissociation reaction of DMS into atomic S does not depend upon the existence of the Rh(PVP) nanoparticles. The NEXAFS results show that there is a strong chemical bonding between Rh(PVP) nanoparticle and atomic S. The ex-situ XPS results show the atomic S adsorbed on the Rh(PVP) nanoparticles partially desorb by exposing to the air.

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© 電気学会 2010
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