日本画像学会誌
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シロキサン系元素ブロック材料の創製
郡司 天博
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2019 年 58 巻 1 号 p. 117-121

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抄録

かご型シルセスキオキサンと水,アルカンジオール,シロキサンジオールの脱水素反応によりかご型シルセスキオキサンが連結した高分子材料が調製される.この高分子はケイ素と酸素を主とする元素ブロック高分子材料のひとつであり,元素を自在に並ばせることにより生成する.オクタキスヒドリドオクタシルセスキオキサンを水で縮合した元素ブロック高分子材料から調製したコーティング膜は水素およびヘリウムに高い透過性を示し,また,窒素との分離効率も高く,気体分離膜として利用される.一方,水ガラス (3号) から2段階の反応により高収率に得られるオクタキス (ジメチルシリル) オクタシリケートをアルカンジオールで縮合した高分子から,透過率が高く柔軟性を有する自立膜が調製される.

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© 2019 一般社団法人 日本画像学会
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