半導体生産における汎用装置の可変期間動的専用化法

抄録

半導体製造のイオン注入工程における段取り替え時間の削減法として,イオン種を一種類に限定する専用化法が提案されてきた．また，製品投入量の変化に対応するため，一定期間ごとに専用化を見直す動的専用化法も考察されている．本研究ではこれらの考察をさらに進め，イオン注入工程での処理量を予測し，予測処理量に応じて専用化の切替時点を可変にする可変期間動的専用化法を提案し，実データを用いてその有効性を検討する．