ゲルマニウム回収のためのキレート多孔性中空糸膜の作成と吸着特性

抄録

ポリエチレン製多孔性中空糸膜を基材膜として, 放射線グラフト重合法を適用し, エポキシ基をもつビニルモノマー, グリシジルメタクリレート (GMA) を重合した。その後, イミノジエタノール (IDE) , ジイソプロパノールアミン (DPA) およびN-メチルグルカミン (NMG) とエポキシ基との反応によって, グラフト高分子鎖にキレート形成基を導入した。グラフト率やモル転化率を変化させて, さまざまなキレート形成基密度や透過流束をもつキレート多孔性中空糸膜を作成した。キレート形成基密度が約2mol/kgのDPA基をもつキレート多孔性中空糸膜の透過流束は, 基材膜のそれの50%になった。ゲルマニウムのキレート形成基への拡散移動抵抗が無視できるので, ゲルマニウム溶液の透過流量を上げると, キレート多孔性中空糸膜へのゲルマニウムの総括吸着速度が高まることを実証した。