エレクトロニクス実装学会誌
Online ISSN : 1884-121X
Print ISSN : 1343-9677
研究論文・技術論文
YAGレーザを用いたSnO2系薄膜の高速微細加工技術に関する研究
臼井 玲大佐藤 了平三原 雄岩田 剛治森永 英二礒野 貴充
著者情報
ジャーナル フリー

2009 年 12 巻 4 号 p. 313-319

詳細
抄録

ナノ秒パルスYAGレーザによるSnO2系薄膜の高速ドライエッチングの検討を行った。実際に加工を行い,加工端部精度2 μm,表面粗さ10 nmを達成可能であることを確認した。さらに加工性は膜厚やパルス幅依存性があり,200~300 nm膜厚,数十nsパルスが適当であることを明らかにした。また加工が自由電子濃度に依存し,その加工可否を分ける閾値が4.0×1025 m−3程度であることを明らかにした。しかし低自由電子濃度にもかかわらず加工が行えた結果も得られ,これに対しYAG光子(1.16 eV)による中間準位からの電子励起メカニズムを推察した。こうした推定加工メカニズムをもとに適正材料を作成することで20 mJ/mm2の低エネルギ加工を達成し,高速加工が達成可能であることを示すことができた。

著者関連情報
© 2009 一般社団法人エレクトロニクス実装学会
前の記事 次の記事
feedback
Top