エレクトロニクス実装学会誌
Online ISSN : 1884-121X
Print ISSN : 1343-9677
研究論文
三次元構造物表面への任意のパターニングおよび3Dフォトマスクの開発
林 政寛張 毅高木 秀樹早瀬 仁則前田 龍太郎伊藤 寿浩
著者情報
ジャーナル フリー

2014 年 17 巻 5 号 p. 436-441

詳細
抄録

本論文では,二光子吸収現象を利用した3Dレーザーリソグラフィを用いて,三次元構造物表面へ任意の金属膜パターンを形成するプロセスを提案する。さらにこの手法により製作した,3Dフォトマスクの製作結果について報告する。3Dフォトマスクは石英基板に半円状の溝が形成されたものを使用し,繊維状基材の円筒面へのマスク投影リソグラフィに使用する。3Dフォトマスクの製作プロセスは3Dレーザーリソグラフィおよびリフトオフプロセスによって構成される。このプロセスにより半円溝に最小線幅2 μmのパターンが形成できることを確認した。また,3Dフォトマスクによる繊維状基材へのパターン転写も可能であることを確認した。

著者関連情報
© 2014 一般社団法人エレクトロニクス実装学会
前の記事 次の記事
feedback
Top