エレクトロニクス実装学会誌
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次世代光・電子システムにおける高耐熱性Ag系反射薄膜に関する研究
佐藤 了平岩田 剛治黒田 晃弘横田 耕一中川 浩一裏 升吾金高 健二
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2005 年 8 巻 6 号 p. 502-507

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抄録

次世代光・電子システムにむけたアド・ドロップグレーティング方式の光伝送路において, 課題であった光伝送系の反射膜として, 酸化物系光導波路に適したAg系反射膜を開発した。そしてわれわれは, この熱的・化学的に不安定なAg系薄膜が安定な反射膜を保っメカニズムを明らかにした。そのメカニズムは, Cr薄膜によってAg表面拡散が抑制されAgの結晶粒成長が抑制される, というものである。またこのとき, Agの酸化物系SiO2およびガラス基板に対する接着力と反射率の安定性には2nm近傍の極薄膜Crが有効であることを見出した。一方, この拡散支配型の結晶粒成長理論は, 薄膜が均一な膜を維持している範囲でのみ成立する。そして, これらの知見はその他の薄膜の熱安定性に関する材料・プロセス設計への展開可能性を示している。

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© 一般社団法人エレクトロニクス実装学会
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