日本結晶成長学会誌
Online ISSN : 2187-8366
Print ISSN : 0385-6275
ISSN-L : 0385-6275
CVD法により形成したTiSi_2膜とSi基板との界面における形態安定性 : 気相成長I
大下 祥雄, 渡部 宏治
著者情報
ジャーナル フリー

1998 年 25 巻 3 号 p. A20-

詳細
PDFをダウンロード (150K)
メタデータをダウンロード RIS形式

(EndNote、Reference Manager、ProCite、RefWorksとの互換性あり)

BIB TEX形式

(BibDesk、LaTeXとの互換性あり)

テキスト
メタデータのダウンロード方法
発行機関連絡先
記事の1ページ目
著者関連情報
© 1998 日本結晶成長学会
前の記事 次の記事
お気に入り & アラート

閲覧履歴
このページを共有する
feedback
 Top