日本結晶成長学会誌
Online ISSN : 2187-8366
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III族窒化物半導体結晶成長における低温堆積緩衝層の構造とその効果 : エピタキシャル成長II
興津 弘道荒木 宗貴田渕 雅夫竹田 美和天野 浩赤崎 勇
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2000 年 27 巻 1 号 p. 31-

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抄録

GaN layers with low-temperature (LT) GaN buffer layers were grown on sapphire substrates by OMVPE. The samples were investigated by X-ray CTR. X-ray reflectivity and AFM measurements. The results of the measurements showed that quality of the grown layers changed sensitively with the change of the growth process of the buffer layer.

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© 2000 日本結晶成長学会
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