日本結晶成長学会誌
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17aB07 モノメチルシランの気相熱分解化学反応における塩化水素の効果(半導体エピ(2),第35回結晶成長国内会議)
羽深 等西田 幹也関口 貴志竹内 隆相原 雅彦
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2005 年 32 巻 3 号 p. 134-

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抄録

Chemical reactions of monomethylsilane (MMS) are studied using a rapid thermal processing reactor, particularly focusing on the thermal decomposition and the reactions with HCl gas. HCl gas is found to chlorinate MMS and its decomposed species to lower the silicon deposition rate and adjust the composition of SiC film.

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© 2005 日本結晶成長学会
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