日本結晶成長学会誌
Online ISSN : 2187-8366
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17pB02 AlCl_3固体原料を用いたAlN成長(半導体エピ(3),第35回結晶成長国内会議)
江里口 健一石井 健一村上 尚熊谷 義直纐纈 明伯大平 重男
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2005 年 32 巻 3 号 p. 141-

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抄録

Hydride vapor phase epitaxy (HVPE) of AlN has been performed using AlCl_3 precursor, which is generated by the reaction between metallic Al and HCl. If high-grade AlCl_3 powder can be obtained, a new HVPE of AlN with mass production potential is possible. We found that high quality layers of AlN were grown using the solid AlCl_3 source.

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© 2005 日本結晶成長学会
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