日本結晶成長学会誌
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01pD07 グラフォエピタキシー的結晶化(コロイド結晶化を結晶成長学で斬る(2),コロイドシンポジウム,第36回結晶成長国内会議)
松尾 繁樹三澤 弘明
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2006 年 33 巻 4 号 p. 254-255

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抄録

Colloid crystallization by a method similar to the graphoepitaxy is described. In this method, V-shaped pits and grooves with specific angles are used for the crystallization of colloid particles; such the pits and grooves can be fabricated by anisotropic etching of silicon substrates. This method has the advantages of ease of fabrication, and diameter-free. The experimental results on this method are presented.

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© 2006 日本結晶成長学会
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