論文
第一原理計算による半導体基板表面の各種材料 (SiO2, Si3N4, poly-Si) へのCeO2吸着解析
キーワード:
density functional theory,
post-CMP cleaning,
adsorption energy,
cerium dioxide,
silicon dioxide,
silicon nitride,
poly-Si
2023 年 89 巻 8 号 p. 642-647
詳細
記事の1ページ目
