マスク修正装置

抄録

LSI, 超LSIの微細化, 高集積密度化は, メモリーの大容量化に伴い急速に進展している.超LSI開発プロジェクトの一環として進められた, フォトマスク (以後マスクと略す) の自動検査とレーザによる修正技術は, 現在, マスク製造の標準工程として定着し, マスクの品質向上はもちろん, 半導体デバイスの歩どまりと信頼性向上に大きく寄与している.
本稿では, マスク欠陥修正の意味, レーザによるマスク修正技術, 装置構成と性能, 今後の修正技術の動向等について述べる.