抄録
以上, Ti拡散LiNbO3を中心として, 光集積化の特長について述べ, 代表的な導波路材料を含めて具体的な光ICを紹介した.これによって, 光ICの基礎的な概念と最近の研究動向の一端がご理解いただければ幸いである.
現状は, ようやく実用的なニーズにこたえる光ICが試作される段階に達したところであり, 実際のシステムサイドの要求を満足するには, なお光ICの実装技術を含めて検討すべき問題が残されている.しかし, 今や薄膜光導波を基礎とする光IC技術は光エレクトロニクスの分野において不可欠なキーテクノロジーである.今後は, 非線形光学効果を用いた光-光制御素子を始めとして, 新しい機能をもつ導波形素子, 光ICの開発に向けてのなお一層の研究の進展が期待される.
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