減圧下チャンバ内でのガス燃焼法 (減圧チャンバフレーム法) の欠点である真空系をなくした大気圧下チャンバ内での燃焼炎法 (常圧チャンバフレーム法) を提案し, 同方法はチャンバを用いない大気圧下での燃焼炎法 (従来法) に比べて不純物元素の混入が少なくかつ凹凸の少ない良質なダイヤモンド膜を提供できることを実証した.また常圧チャンバ法において, クラスタダイヤモンドによる基板処理の手法と合成条件を段階的に変化させる手法を組み合わせて採用することにより結晶の微細化が図れることを示した.最後に両手法により得られたコーテッドダイヤモンド切削チップの性能評価を行った結果, 常圧チャンバフレーム法により作成した切削チップは耐久性能及び被加工材の仕上面性能において熱フィラメントCVD法による切削チップとほぼ同等の性能を有することを明らかにした.