論文
NbドープTiO2薄膜の熱拡散率に対するNb添加効果
キーワード:
Nb-doped TiO2,
TiO2,
thermal diffusivity,
‘rear heating/front detection type’ nanosecond thermoreflectance system
2014 年 25 巻 3 号 p. 117-120
詳細
2014 年 25 巻 3 号 p. 117-120
DCマグネトロンスパッタ法により，TiO2-xおよびNb:TiO2-x還元ターゲット(Nb含有量:3.7，9.5at.%)を用いて，Mo/TiO2/MoおよびMo/Nb:TiO2/Mo3層膜を作製し，TiO2およびNb:TiO2の熱拡散率を導出した．なおTiO2層およびNb:TiO2層は基板温度を110°Cの条件での300nm厚さに成膜し，成膜後600°Cで焼成を行った．熱拡散率解析は裏面加熱/表面測温型ナノ秒サーモリフレクタンス熱物性解析装置を用いた．得られたTiO2およびNb:TiO2の熱拡散率は、膜中のNb含有量が増加するに従い2.1×10-6m2s-1から1.2×10-6m2s-1まで減少した．熱拡散率減少のメカニズムはTiより質量の大きいNb原子の増加によりフォノン散乱の確率が増加し、平均自由行程が減少したためであると考えられる．
