COMPUTER SIMULATION OF MICROSTRUCTURE OF THE FILMS DEPOSITED BY MEANS OF A SPUTTERING PROCESS

日本応用磁気学会誌

Online ISSN : 1880-4004
Print ISSN : 0285-0192
ISSN-L : 0285-0192

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1997 年 21 巻 S_3_PMRC_97_3 号 p. S3_7-7

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