SiOH基板上に支持されたPMMA薄膜の緩和過程に現れる初期膜厚依存性の調査

日本物理学会講演概要集

Online ISSN : 2189-0803
ISSN-L : 2189-0803

セッションID: 24aPS-95

DOI https://doi.org/10.11316/jpsgaiyo.72.2.0_2829

会議情報

主催: 一般社団法人日本物理学会

会議名: 2017年度日本物理学会秋季大会

開催地: 宇都宮大学, 岩手大学

開催日: 2017/09/12 - 2017/09/24

SiOH基板上に支持されたPMMA薄膜の緩和過程に現れる初期膜厚依存性の調査

小西真晶, 鳴川啓輔, 關屋和貴, 高橋功

著者情報

キーワード: 過冷却液体・ガラス, 実験, 界面, ガラス転移, 緩和現象, 動的不均一性

会議録・要旨集フリー

詳細

記事の1ページ目

著者関連情報

© 2017 日本物理学会

お気に入り & アラート

関連記事

閲覧履歴

前身誌

日本物理学会年会講演予稿集

年会予稿集

年会講演予稿集

日本物理学会講演概要集. 年会

日本物理学会分科会講演予稿集

日本物理学会春季分科会講演予稿集

春の分科会予稿集

春の分科会講演予稿集

秋の分科会予稿集

日本物理学会講演概要集. 秋の分科会

Top