Journal of the Physical Society of Japan
Online ISSN : 1347-4073
Print ISSN : 0031-9015
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Control of Electron Temperature of a Plasma in Double Plasma Device
Tadao Honzawa
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1977 年 42 巻 3 号 p. 1077-1078

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A method is described for varying the electron temperature of a plasma (target-plasma) in a double plasma device from 0.05 to 1.3 eV by adjusting the thermionic emission of electrons from filaments used in the region.
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