応用物理学会学術講演会講演予稿集
Online ISSN : 2436-7613
第71回応用物理学会秋季学術講演会
セッションID: 17a-ZJ-7
会議情報

主催: 社団法人 応用物理学会

会議名: 応用物理学会秋季学術講演会

回次: 71

開催地: 長崎大学

開催日: 2010/09/14 - 2010/09/17

大気圧CVD法による無添加及びGa添加ZnO薄膜の作製とフォトルミネッセンス特性
*寺迫 智昭, 谷口 浩太, 平良 啓介, 矢木 正和, 白方 祥
著者情報
キーワード: 17a-ZJ-7, 合同セッション, 合同セッションK「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」, フォトルミネッセンス, 化学気相堆積法, 酸化亜鉛
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