応用物理学会学術講演会講演予稿集
Online ISSN : 2436-7613
第62回応用物理学会春季学術講演会
セッションID: 13a-P14-2
会議情報

主催: 公益社団法人 応用物理学会

会議名: 応用物理学会春季学術講演会

回次: 62

開催地: 東海大学

開催日: 2015/03/11 - 2015/03/14

二段階Pイオン注入によるメタル/n+Geコンタクト低抵抗化とGe nMOSFETの寄生抵抗低減
*小池 正浩, 上牟田 雄一, 黒澤 悦男, 手塚 勉
著者情報
キーワード: 13a-P14-2, 半導体, Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術, 金属-半導体界面/コンタクト, 半導体, ゲルマニウム, コンタクト抵抗
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