SOQ基板上にエピタキシャル成長したGe層の光学的評価

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第64回応用物理学会春季学術講演会

セッションID: 16a-F204-3

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2017.1.0_1216

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会春季学術講演会

回次: 64

開催地: パシフィコ横浜

開催日: 2017/03/14 - 2017/03/17

SOQ基板上にエピタキシャル成長したGe層の光学的評価

*西村道治, 大坂次郎, 石川靖彦

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キーワード: 16a-F204-3, 光・フォトニクス, シリコンフォトニクス, 新規材料，プロセス，評価, ゲルマニウム, シリコン・オン・サファイア

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