電子線/フォトリソグラフィ両用ポジ型レジストの露光特性評価

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第64回応用物理学会春季学術講演会

セッションID: 14p-423-4

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2017.1.0_1650

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会春季学術講演会

回次: 64

開催地: パシフィコ横浜

開催日: 2017/03/14 - 2017/03/17

電子線/フォトリソグラフィ両用ポジ型レジストの露光特性評価

岸村由紀子, 張帥, *浅田裕法

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キーワード: 14p-423-4, ビーム応用, 微細パターン・微細構造形成技術, レジスト, レジスト, 電子線/フォト両用レジスト, 露光特性

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