ゲストフリーⅡ型Geクラスレート膜の合成Ⅱ

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第78回応用物理学会秋季学術講演会

セッションID: 7p-PB4-5

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2017.2.0_2828

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会秋季学術講演会

回次: 78

開催地: 福岡国際会議場

開催日: 2017/09/05 - 2017/09/08

ゲストフリーⅡ型Geクラスレート膜の合成Ⅱ

*鈴木渉太, 久米徹二, 境健太郎, Himanshu S Jha, 大橋史隆, 野々村修一, 福山敦彦

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キーワード: 7p-PB4-5, 半導体, 探索的材料物性・基礎物性, シリサイド半導体，環境半導体, クラスレート

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