高分子溶液中における回転円板付近の流れについて

日本機械学会誌

Online ISSN : 2424-2675
ISSN-L : 0021-4728

高分子溶液中における回転円板付近の流れについて

加藤宏, 渡辺敬三, 納谷孝太郎

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1978 年 81 巻 711 号 p. 181-

DOI https://doi.org/10.1299/jsmemag.81.711_181_8

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