名古屋大学工学部合成化学科
1990 年 11 巻 2 号 p. 104-109
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CVD (化学蒸着) 法による触媒の調製における特徴と得られた触媒の機能について述べる。はじめに, 従来の触媒調製法に比較して, CVD法が単純で直接的な調製法であることを紹介する。つぎに, CVD法により固体表面に成長させた酸化物に見られる特徴-エピタキシー成長-について, 同質, 異質の二つの場合を考察する。これらの実例として, 著者らの研究例である, ゼオライトの細孔入口径制御のためのケイ酸アルコキシドの化学蒸着および固体酸点の生成に関するアルミナ上のシリカ膜生成について述べる。
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