表面科学
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XPS化学修飾法による材料表面官能基の解析
白水 正樹堀 良万
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1994 年 15 巻 1 号 p. 34-39

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抄録
高分子材料表面の官能基を明確に同定する手法として, XPSに高感度なヘテロ原子を含む試薬を目的とする官能基と選択的に反応させ, ヘテロ原子をXPSで測定することにより官能基を同定するXPS化学修飾法が提案されている。本稿ではXPS化学修飾法での試薬, 反応法の最近の研究成果と表而改質高分子フィルムへの応用例について紹介する。
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© 社団法人 日本表面科学会
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