低溶存酸素濃度超純水によるSi表面処理およびフッ酸溶液処理の問題点

抄録

本解説では,フッ酸系溶液によるSi表面の水素終端化および低溶存酸素濃度超純水の今後のLSIプロセスに対する役割をはじめに概説する。つぎに,低溶存酸素濃度超純水を用いたSi表面処理,および,フッ酸系溶液処理をプロセスに用いる場合の問題点について,筆者の実験結果をまじえて論じる。