表面科学
Online ISSN : 1881-4743
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シリコン表面におけるGa細線の形成とその特性
橋詰 富博平家 誠嗣一杉 太郎渡邊 聡市村 雅彦小野木 敏之
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1998 年 19 巻 11 号 p. 716-721

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抄録

Scanning tunneling microscopy/spectroscopy (STM/STS) and atom manipulation have been used to fabricate and evaluate atomic-scale structures on a hydrogen-terminated Si(100)-2×1-H surface. Atomic-scale Ga wires are fabricated by using selectively adsorbing thermally evaporated Ga atoms on the dangling-bond patterns. Electronic structures of the dangling-bond wires and theoretically predicted properties of the Ga structures, such as the conductivity and the flat-band ferromagnetic property are addressed.

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© 社団法人 日本表面科学会
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