真空
Online ISSN : 1880-9413
Print ISSN : 0559-8516
極薄シリコン酸化膜形成の理論
影島 博之, 白石 賢二, 植松 真司
著者情報
ジャーナル フリー

44 巻 (2001) 8 号 p. 701-706

DOI https://doi.org/10.3131/jvsj.44.701
詳細
PDFをダウンロード (836K)
メタデータをダウンロード RIS形式

(EndNote、Reference Manager、ProCite、RefWorksとの互換性あり)

BIB TEX形式

(BibDesk、LaTeXとの互換性あり)

テキスト
ダウンロード方法
発行機関連絡先
記事の1ページ目
著者関連情報
© 日本真空協会
前の記事 次の記事
お気に入り & アラート

閲覧履歴
このページを共有する
feedback
 Top