主催: 日本表面真空学会
成蹊大学大学院理工学研究科
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代表的なEC材料であるWO3を3 Paと高い圧力で製膜し、Liカチオンが注入されやすい疎な膜構造を作製した。以前は、膜厚500 nmのサンプルは安定した着消色を示したが、1000 nmは完全に消色せず、深いトラップへ注入されたカチオンの残留が示唆された。今回は、膜厚1000 nmのサンプルへのカチオン注入を抑制するために、注入時の印加電圧を変化させ、着消色時の透過スペクトルならびに移動電荷量を比較した。
表面科学講演大会講演要旨集
表面科学学術講演会要旨集
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