キーホール側面から観察したスパッタ飛散現象

抄録

円形集光と矩形集光を用いたレーザ溶接現象をキーホール側面から観察し、スパッタ発生現象の差を調査した。その結果、円形集光では低速条件でキーホール底部から発生したが、高速条件では溶融池表面付近の溶融池が吹き飛ばされて発生した。一方、矩形集光ではキーホール形状が安定しており、スパッタの発生はほとんど見られなかった。