テトラメトキシシランからのシリカ微粉の気相合成

小島 紀徳; 内山 剛史; 加藤 茂; 渋谷 博光; 上宮 成之

doi:10.1252/kakoronbunshu.30.306

粉粒体工学、流動層

テトラメトキシシランからのシリカ微粉の気相合成

小島紀徳, 内山剛史, 加藤茂, 渋谷博光, 上宮成之

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キーワード: シリカ, テトラメトキシシラン, 加水分解, 微粉

ジャーナル認証あり

2004 年 30 巻 3 号 p. 306-310

DOI https://doi.org/10.1252/kakoronbunshu.30.306

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抄録

半導体産業の発展などから高機能なシリカ製品が注目されている. なかでも微粒シリカの用途は多岐にわたる. 現在の主な製造法では, 多くの問題がある. そこで本研究では, 液相法が主流であるアルコキシシランの加水分解を気相中において行い, 連続合成によりシリカ合成することを想定し, 操作条件が反応速度(粒子生成速度)および生成した粒子性状に与える影響を検討した. 反応条件を変えることで粒子径の制御が可能であることが示された.

責任著者(Corresponding author)

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