化学工学論文集
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[特集]実践晶析技術の進展
高圧力下での無電解ニッケル–リンめっき
信吉 裕太山本 拓司前田 光治福室 直樹八重 真治
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2018 年 44 巻 1 号 p. 35-38

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抄録

電解めっきと比較して無電解めっきは絶縁性の素地への成膜性に加えて,めっき皮膜の均一性や耐食性にも優れている.本研究では,めっき浴に加える圧力を0–400 MPaの範囲で変化させて無電解ニッケル–リンめっき(以下,無電解Ni–Pめっき)を実施し,めっき皮膜の成長速度や表面形状におよぼす高圧力の影響を検討した.その結果,高圧力条件下での無電解Ni–Pめっき操作の再現性を確認した.また,20 MPa以上に加圧することで,めっき膜の成長速度は常圧下での場合に比較して増加したが,それ以上に加圧すると圧力の増加にともなって減少した.

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© 2018 公益社団法人化学工学会
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