三菱化学(株)横浜総合研究所
1996 年 44 巻 7 号 p. 428-431
(EndNote、Reference Manager、ProCite、RefWorksとの互換性あり)
(BibDesk、LaTeXとの互換性あり)
日常生活のあらゆる分野に入り込んでいる半導体は, 「産業の米」として現代のハイテク社会を支えている。その発展の陰には, 数分の1ミクロンレベルの加工を可能としたフォトリソグラフィー技術の飛躍的な発展がある。なかでもフォトレジストの解像力向上には目を見張らせるものがある。本稿ではそのフォトレジストにスポットをあて, リソグラフィープロセスの概要, 材料系の変遷, 解像力向上の手法, 今後の傾向等について紹介する。
化学教育シンポジウム
化学教育
すでにアカウントをお持ちの場合 サインインはこちら