著者所属:東京工業大学工学部 東京工業大学工学部 東京工業大学工学部 広島大学工学部
51 巻 (1985) 471 号 p. 3471-3479
(EndNote、Reference Manager、ProCite、RefWorksとの互換性あり)
(BibDesk、LaTeXとの互換性あり)
磁場こう配のある非一様磁場下ではMHD液膜流の流動現象について解析と実験により検討したものである。磁場こう配下では渦電流が発生し印加磁場との干渉により主として流れと逆向きの電磁力が発生する。この電磁力は一種の非接触のせきの働きをなし、磁場こう配部に流入する流れのフルード数Frが1より小さい場合、液膜厚さは流れ方向に減少し、Frが1より大きい場合、液膜厚さは逆に増加することを示した。
機械学會論文集
日本機械学會論文集
日本機械学会論文集 A編
日本機械学会論文集C編
日本機械学会論文集B編
日本機械学会論文集A編
日本機械学会論文集 C編
すでにアカウントをお持ちの場合 サインインはこちら