抄録
ポジ型フォトレジストの主成分であるノボラック樹脂の分子量及びメタクレゾール/パラクレゾール仕込み反応比率のレジスト性能への影響を調べた. 分子量を増すとレジストの感度は低下するが, 残膜率と耐熱性が向上する. また分子量の解像度への影響はほとんどない. これは, 分子量増加によるレジストのアルカリ現像液に対する溶解性の低下及び軟化点の上昇によると考えられる. 一方, パラクレゾールの仕込み比率を増すと感度が低下し, 残膜率, 耐熱性, 解像度が向上した. パラクレゾール比率の増加はポリマーに剛直性または規則性を与え, これが現像液への溶解性の低下及び耐熱性の向上に寄与していると考えられる. また解像度の向上は, 露光部における, ナフトキノンジアジド化合物の光分解で生じるインデンカルボン酸の溶解促進効果が, パラクレゾール比率が増加するにつれてより顕著になるためであると推察した.
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