高分子論文集
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プレベークしたポジ型ホトレジストの表面層の変化
浅海 愼五古田 光寛
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47 巻 (1990) 7 号 p. 619-621

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抄録

プレベーク後のポジ型ホトレジストを現像液に浸漬すると, 初期の溶解速度は著しく遅く, 時間の経過とともに速くなる. この現象はインダクション効果と呼ばれているが, プレベークによってレジスト表面層の特性が変化したものである. このインダクション効果を明らかにするために, レジストを現像液に浸漬した時の現像液溶解物を分析した結果, PACに含まれている2, 3, 4-トリヒドロキシベンゾフェノン (TBP) が減少していることが分かった. TBPはアルカリ水溶液への溶解性が著しく良いので, 現像液中でのホトレジスト表面層の低溶解速度はブレベークにおけるレジスト表面層からのTBPの蒸発によると推定した.

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© 社団法人 高分子学会
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