高分子論文集
Online ISSN : 1881-5685
Print ISSN : 0386-2186
シリル化ジアミン法によるポリジメチルシロキサン-ポリイミドブロック共重合体の合成と性質
梶山 幹夫大石 好行柿本 雅明今井 淑夫
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49 巻 (1992) 3 号 p. 235-240

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抄録

両末端にアミノ基を有するポリジメチルシロキサン (PDMS) オリゴマー (PDMS-ジアミン) のアミノ基をトリメチルシリル化したものと坪トリメチルシリル化ビス (4-アミノフェニル) エーテルと無水ピロメリト酸とをジグライム中, 室温で反応させることにより, PDMS-ポリアミド酸トリメチルシリルエステルブロック共重合体を合成し, これを流延した後, 300℃に加熱することにより, ミクロ相分離構造を有するPDMS-ポリイミドブロック共重合体のフィルムを得た. このブロック共重合体は, 300℃以下では熱分解せず, 耐熱性エラストマーとして挙動することがわかった.

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© 社団法人 高分子学会
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