工業化学雑誌
Online ISSN : 2185-0860
Print ISSN : 0023-2734
光学法による工業分析の研究(第4～6報)(第6報)合成メタノール後留分の赤外線吸収による分析
佐伯 慎之助, 益子 洋一郎, 冨田 弘
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59 巻 (1956) 2 号 p. 250-258

DOI https://doi.org/10.1246/nikkashi1898.59.250
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