メタンの熱塩素化反応におけるメタン誘導体の分布

抄録

塩素とメタンガスとはあるモル比以上で250℃ 付近で爆発するので,塩素量を少なくした安全組成で無触媒,塩化第二銅触媒,活性炭触媒を用いて塩素化し,生成物の分析を行った。塩素化反応は400～450℃ が適当であるが,触媒を用いると低温でも十分反応は進行する。塩化第二銅触媒による塩素の反応は良好で,活性炭触媒の場合は高塩素化物が多いという結果を得た。
窒素ガスを希釈剤として塩化メチルを350℃ で塩素化し,その生成物分布を計算し,塩化メチルの速度定数に対する塩化メチレンの比が0.65,クロロホルム0.20という値を得た。この値はメタン誘導体の個別塩素化から得られた値とほぼ一致した。