74 巻 (1971) 3 号 p. 371-375
常圧流通反応装置を用い水素存在下におけるイソブテンの高温熱反応の速度論的研究を行なった。反応温度は650~750℃であった。反応は主として次の逐次的水素化脱メチル基反応であった。
イソブテンの消失の総括反応速は次の1.5次式で記述し得た。
-d[イソブテン]/dt=k[イソブテン][水素]1/2
ただし,k=1.56×1014exp(-64000/RT), l1/2/mol1/2・sec
素反応速度定数の比, k2/k1は1.6±0.1であることが知られた。水素原子がメチル基の隣接する sp2 炭素原子へ求電子的に攻撃し, メチル基が協奏的に脱離する機構に基づいて議論を行なった。オレフィンの sp2 炭素原子に対する水素原子の政撃の難易を予測するため拡張 Hückel 分子軌道法計算を行なった。