1990 巻 (1990) 1 号 p. 12-16
含浸法で調製したNio/Sio2触媒のニッケル出発物質の相違による球状担体中でのニッケル原子の分布状態,ニッケルの分散性および触媒活性への影響を検討した。硝酸ニッケル,塩化ニッケルを出発物質として用いた場合,ニヅケルはシリカ担体の内部まで均一に分布する。また,ギ酸ニッケル,酢酸ニッケルおよび塩基性炭酸ニッケルを用いた場合では,シリカ担体の外部表面にのみニッケルが存在することを明らかにした。一方.ニッケル粒子径および触媒の還元特性などのニヅケルと担体との相互作用もニッケルの出発物質により容易に制御できることがわかった。さらに触媒活性は,担体中でのニッケルの分布状態,還元性状および粒子径などのニッケルと担体との相互作用によりいちじるしい影響を受けることを見いだした。