III-V族化合物の半導体的特性がはじめて指摘されてから,30年が経過した.この間,この材料についての物性研究および材料技術を基盤として,特徴のあるデバイスが数多く開発されてきた.
さらにこの材料は,材料・プロセス技術を駆使して,新しい機能デバイスの開発やIC化へ新たな発展の時代を迎えつつある.その発展のためには,この材料の開発当初から現在までもひき続いて残されている問題を各分野の人々が協力し,解決してゆくことが重要である.
この材料の半世紀におよぶ研究開発を概観し,その残された問題点を述べる.