応用物理
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光励起 CVD
英 貢
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1983 年 52 巻 7 号 p. 560-566

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抄録

光励起CVDとは,光エネルギーを利用して気体材料から薄膜を形成させる方法に対して,最近使われはじめた用語である.本稿では,その原理と実施例について解説する.光励起CVDは薄膜形成のほか,ドーピング,エッチング,合金化などの表面加工にも応用されている.反応機構としては光分解と熱分解があり,双方が巧みに利用されている.光分解を利用すれば励起に高い選択性をもたせることができるし,低温での薄膜形成が可能となる.光源としてレーザーを利用すれば, 1μm前後の空間分解能で薄膜形成や表面加工が可能となる.これらの成果は,半導体分野を中心に広く応用されるものと期待される.

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© 社団法人 応用物理学会
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