有磁場マイクロ波プラズマエッチングにおける気相および表面の解析
1986 年 55 巻 12 号 p. 1172-1176
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1986 年 55 巻 12 号 p. 1172-1176
有磁場マイクロ波プラズマエッチングにおいて,気相中のラジカルおよびSi表面の計測,解析を行なった.気相滴定法,レーザー誘起蛍光法を用いたラジカル計測から,有磁場マイクロ波プラズマ内では,ガス分子の解離,イオン化が効率的に行なわれるという知見が得られた.また,Si表面の XPS 分析により,Siエッチングに用いられているSF6中の硫黄原子が,Si表面清浄化作用を持つことを明らかにした.
