三つの回折格子を用いた光ヘテロダイン測定による高精度位置合わせ技術
1987 年 56 巻 11 号 p. 1490-1494
詳細
1987 年 56 巻 11 号 p. 1490-1494
光の回折・干渉・偏光現象を利用して, X線リソグラフィーでのマスクとウエハーのような,近接した二物体の相対位置を高精度に合わせる方法を開発した.本方法では,マスクとウエハーに,合計3個の異なった格子周期を有する回折格子を形成し,波長がわずかに異なる二つの直線偏光よりなる光束を照射することにより,回折光強度のうなりの位相から,両者の位置ずれを検出する,本方法の特長は,きわめて簡単な光学系でマスクとウエハー間の相対位置ずれをヘテロダイン測定し,両者を高精度(±0.01μm)に位置合わせ制御することにある.
