電子技術総合研究所
1987 年 56 巻 3 号 p. 352-356
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プラズマCVD法により作製される,水素化アモルファスシリコン系合金材料の高品質化が,報告され始めている.このなかで,膜形成ラジカルを選択制御することにより,膜成長表面でのネットワーク構造決定反応を制御する方法としての三電極プラズマCVD法を紹介し,他に報告されている光CVD法などの方法との共通点,相違点を議論する.
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